集成电路静电保护的要求、设计与优化培训顺利开展

　　2024年9月5日-6日，由国家集成电路设计深圳产业化基地与芯动力人才计划联合举办的第139期国际名家讲堂圆满落幕。本次讲堂以“集成电路静电保护的要求、设计与优化”为主题，汇聚了80余位来自各地的集成电路领域精英，共同探讨行业前沿技术。

　　在为期两天的活动中，IEEE Fellow、北方民族大学特聘教授刘俊杰与苏州智聚芯联特聘高级顾问赖大伟先生，分别就集成电路静电保护议题进行了深入剖析与精彩演讲。

　　刘俊杰教授首先从静电保护的背景出发，系统阐述了设计要求及EDA构建策略，并深入讲解了大信号接口及高鲁棒性静电保护方案的设计精髓。赖大伟顾问则针对高压ESD与Latchup的技术挑战，分享了高压SCR的设计标准、保护策略及预防Latchup的有效措施与优化方案。

　　讲堂现场，互动氛围浓厚而有序。学员们积极提问，与业界权威进行面对面的深度交流与思想碰撞。就静电保护领域的诸多疑惑与难题，专家们以高度的专业性和耐心，逐一解答，慷慨分享其宝贵经验与独到见解。

　　此次讲堂不仅为参与者搭建了学习先进理论知识的平台，更通过互动环节，促进了理论与实践的深度融合，解决实际工作中遇到的问题。众多学员反馈，此次交流极大地加深了他们对静电保护技术的理解，为提升个人专业技能及推动行业进步奠定了坚实基础。

　　随着本期国际名家讲堂的成功举办，行业内外已对下一期讲堂充满期待。国家集成电路设计深圳产业化基地将不忘初心，持续邀请业界领军人物，分享最新科技成果与实战经验，为集成电路产业的蓬勃发展贡献力量，满足行业日益增长的学习需求。